Nejprve, když vrstva oxidového filmu vykazuje špatný stav s práškem nebo šedou, měli bychom se nejprve pokusit zjistit, zda může být vymazána. Musíme odstranit prach způsobený procesem uzavření a práškem vyplývajícím z elektrického šoku.
Za druhé, analyzujte zdroje oxidovaného práškového popela jeden po druhém.
Obecně je odlupování filmové vrstvy způsobeno následujícími body:
1. Teplota oxidační nádrže je příliš vysoká;
2. Koncentrace kyseliny sírové je příliš nízká;
3. Obsah hliníku iontů přesahuje 18 g/l. (Rychlý nárůst obsahu iontů hliníku je často způsoben vysokou teplotou oxidační nádrže a také kvůli tomu, že včas selhával ztracené položky z oxidační nádrže.)
Teplota oxidační nádrže je příliš vysoká; Měli bychom dojít k závěru, že chladicí zařízení není dostatečně velké? Pokud je obvyklá chladicí kapacita dostatečná, musíme zvážit velikost cirkulace chlazené vody. Je vysoká teplota způsobena zablokováním v cirkulačním čerpadle? Vyloučíme každou možnost jeden po druhém.
Obsah kyseliny sírové by měl být založen na denní spotřebě kyseliny sírové přinesené a ven z oxidační nádrže a kyselina sírová by měla být pravidelně testována a doplněna. Čas by měl být udržován v rozmezí procesu (180-220 g/l je optimální).
Teplota elektrolytu má významný dopad na odolnost proti opotřebení oxidovaného filmu. Obecně lze říci, že pokud se teplota sníží, zvyšuje se odolnost proti opotřebení anodického oxidového filmu na hliníkových a hliníkových slitinách. Je to způsobeno snížením rychlosti rozpouštění filmu elektrolytem. Abychom dosáhli vyšší tvrdosti oxidového filmu, měli bychom udržovat teplotu v rozsahu ± 2 stupňů během tvrdé eloxované léčby.
